Oberflächen und Mikrobereichsanalytik...

... die Untersuchung zwei- und dreidimensionaler kleinster Objekte

Viele Methoden der instrumentellen Analytik erfassen das Volumen der zu untersuchenden Probe und besitzen keine spezielle Ortsauflösung.
 
Die technologischen Entwicklungen (Mikroelektronik, -optik, -mechanik, –sensorik, -systemtechnik, Nanotechnologie) führen zu immer stärkerer Miniaturisierung  mit der Konsequenz, dass zwei- und drei-dimensionale kleinste Objekte kontrolliert werden müssen.

Es wurden deshalb spezielle Oberflächenanalysemethoden entwickelt, mit denen diese Aufgaben erfolgreich erledigt werden können. Die Methoden der Rastersondenmikroskopie – STM und AFM als bekannteste Methoden – besitzen die geforderte atomare bis subatomare Auflösung.

Die Entwicklung der klassischen Methoden der Oberflächenanalytik – z.B. AES, SIMS und XPS – wurde apparativ immer weiter vorangetrieben. Sie liefern heute mit sehr guter bis hinreichender lateraler Auflösung chemische und strukturelle Informationen über die obersten Atomlagen der Materie, wie z.B. AES, TOF-SIMS.

Weitere wichtige Verfahren sind nach wie vor die Rasterelektronenmikroskopie (REM) mit EDX- oder  WDX- Einrichtung sowie XRD und Infrarottechniken (FTIR, Raman).

 

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